Jelly Seal Dewy Mask od Dr. Althea je vysoce účinná, duálně vrstvená plátýnková maska navržená pro intenzivní a dlouhotrvající hydrataci, posílení kožní bariéry a navrácení zdravého, rozzářeného vzhledu.
Detailní popis produktu
Jelly Seal Dewy Mask od Dr. Althea je vysoce účinná, duálně vrstvená plátýnková maska navržená pro intenzivní a dlouhotrvající hydrataci, posílení kožní bariéry a navrácení zdravého, rozzářeného vzhledu.
Klíčové složení a benefity:
-
HyalDeca Komplex (8-10 typů kyseliny hyaluronové): Tato směs zajišťuje vrstvenou a hlubokou hydrataci v různých vrstvách pokožky.
Hyaluronáty s různou molekulovou hmotností zajišťují jak povrchovou hydrataci, tak i zadržování vlhkosti uvnitř pleti. -
PhytoPDRN Lotus: Rostlinný PDRN (polynukleotid) získaný z lotosového listu.
Tato složka pomáhá zlepšovat elasticitu pleti, zpevňuje ji a podporuje regeneraci pro celkově omlazený vzhled. -
Madecassoside a panthenol (Vitamin B5): Tato kombinace je klíčová pro zklidnění citlivé pleti a posílení kožní bariéry.
Madecassoside snižuje záněty a zarudnutí, zatímco panthenol pleti dodává vlhkost a zvyšuje její odolnost.
Maska je vyrobena z měkké gázy s duální gelovou technologií, která vytváří unikátní texturu.
Použití:
Po vyčištění pleti a aplikaci toneru opatrně vyjměte masku z obalu a rozložte. Přiložte masku na obličej a nechte působit 10–20 minut. Masku odstraňte a zbývající esenci jemně vklepejte do pleti pro plnou absorpci.

Doplňkové parametry
| Kategorie: | Plátýnkové masky |
|---|---|
| EAN: | 8809447255743 |
| Balení: | 28g |
| Složení: | Water, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Diglycerin, Polyglycerin-3, Carbomer, Arginine, Allantoin, Polyglyceryl-10 Laurate, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Sodium Hyaluronate, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Acetylated Hyaluronate, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Nelumbo Nucifera Leaf Extract, Sodium DNA, Potassium Hyaluronate |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
